太陽電池パネルの膜としてCIGS膜やCIS膜などが使われている。 通常、CIGS膜やCIS膜は高真空領域で成膜されることが多く、 このような条件下では、モンテカルロ直接法(DSMC)は大変有効である。

   評価事例) CIGS膜 ( CIS膜 ) の成膜速度分布や膜の均一性の評価

近年、ディスプレイや照明に有機ELが用いられるようになった。 有機ELは高真空領域で成膜されることが多い。通常、有機材料の蒸発セルは比較的圧力が 高く自由分子流として解くと成膜分布を再現できないことが多い。 そのためにDSMC法がとても有効な手法である。

  評価事例) 有機ELシミュレーションにおける成膜速度の均一性、形状の最適化、成膜分布の有機材料温度依存性など

分子線エピタキシーでは高真空下での結晶成長させる真空蒸着法の一つである。チャンバー内が高真空で あるために流体モデルで解くことは困難であり、DSMC法が有効なシミュレーションの一つである。

  評価事例) 分子線エピタキシーシミュレーションにおける分子線セル形状、成膜分布の均一性、濃度分布の最適化など

DSMC-Neutralsはアレニウス形式の反応データを考慮することができるため、化学反応を考慮した化学蒸着の計算が可能である。

  評価事例)シャワーヘッドの形状評価、基板温度の影響、ラジカル分布の評価など

DSMC-Neutralsは非構造メッシュを採用しているために、複雑な形状の計算も可能である。そのためにターボ分子ポンプと繋がっている配管のコンダクタンスなどのシミュレーションができる。

  評価事例)コンダクタンスの温度・断面積依存性、ガス溜まり・脱ガスの影響など

DSMC-Neutralsでは、ドラック力（抵抗力）、熱泳動、重力を同時に考慮することが可能である。 そのために、ダストの挙動計算やダストの影響によるコンタミネーションに関するシミュレーションができる。 熱泳動はリソグラフィーマスクからの微粒子の汚染保護にも活用されている。流体モデルや自由分子流解析ソフトでは解析が難しい熱泳動の計算がDSMC-Neutralsでは可能である。

  評価事例)チャンバー内のダストの挙動、熱泳動力によるコンタミネーションの抑止など

近年、ハードディスクの媒体とスライダ先端のヘッドの間隔は数[nm]と非常に狭くなっている。一方、ガス流れは激しいために密度勾配が大きく通常の流体解析ソフトでは計算が難しい。DSMC-Neutlralsはこのような圧力が高い計算モデルであったても、計算領域が狭いために短時間で計算結果を得ることができる。

  評価事例)スライダに働く力、スライダと媒体間のガス流れ（圧力、密度など）

アークイオンプレーティング(AIP)装置内のガス圧力は非常に低い。DSMC-Neutralsはアークイオンプレーティング(AIP)装置内のガス流れの計算が可能である。

  評価事例)圧力分布、密度分布

人工衛星などが大気圏に突入するときなど、極超音速の物体周りのガス流れの計算が可能である。

  評価事例)物体周りの密度・温度分布、化学反応の影響など

チャンバー内など希薄気体(希薄流体)ではノズル付近で衝撃が起こりやすい。

温度差がある物体などに挟まれた領域では、熱電導だけでは温度の伝達ができないために対流が起こる。