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EnSight

TOPOは，半導体製造プロセスに代表されるような微細パターンをPVD/CVD/Etching等の方法により加工する際， 形状がどのように変化するかをシミュレーションするアプリケーションです。

Level Set法を用いることによりトレンチに対する2次元シミュレーションは勿論，3次元のシミュレーションが可能です。

平均自由行程に比べてパターン寸法が非常に小さいため，粒子はballistic とみなし，表面上へのfluxを計算します。

流入粒子の反射は，鏡面・拡散の両方に対応します．また，エネルギーや角度の依存性を考慮することも可能です．

ACE+が持つ表面反応と同様に表面上でカバレッジ（複数のspeciesのsite）を考慮した複雑な反応を考慮できます。

表面上で細かくなる adaptive mesh が自動的に生成され，滑らかな表面を再現できます。

TOPOは入力ファイルをユーザーが指定することにより単独でも使用可能です。 また、TOPOが必要とする入力fileをACE+から出力させる， といったリアクタースケールの反応解析と組み合わせた解析が可能な唯一のソフトウェアです。

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